Nanoimprint lithography patterned GaAs templates for site-controlled InAs quantum dots

    Aktiviteetti: Konferenssiesitelmä

    Aikajakso2010
    Tapahtuman otsikkoMBE 2010 16th International Conference on Molecular Beam Epitaxy, August 22 - 27, 2010, Berlin, Germany
    Tapahtuman tyyppiConference

    Country of activity

    • Yhdysvallat (USA)

    Publication forum classification

    • Ei tasoa