Atomic hydrogen concentration mapping in thermal plasma chemical vapour deposition

Julkaisun otsikon käännös: Atomic hydrogen concentration mapping in thermal plasma chemical vapour deposition

Tutkimustuotos: Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

7 Sitaatiot (Scopus)

Julkaisun otsikon käännös	Atomic hydrogen concentration mapping in thermal plasma chemical vapour deposition
Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	455-464
Julkaisu	Applied Physics B: Lasers and Optics
Vuosikerta	72
Tila	Julkaistu - 2001
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisufoorumi-taso

@article{3bb2e170cd014337baf03412eab9b8a4,

title = "Atomic hydrogen concentration mapping in thermal plasma chemical vapour deposition",

author = "J. Larjo and J. Walewski and R. Hernberg",

note = "Contribution: organisation=fys,FACT1=1",

year = "2001",

language = "English",

volume = "72",

pages = "455--464",

journal = "Applied Physics B: Lasers and Optics",

issn = "0946-2171",

publisher = "Springer-Verlag",

}