Atomic layer deposited iridium oxide thin film as microelectrode coating in stem cell applications

    Tutkimustuotos: ArticleScientificvertaisarvioitu

    6 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Artikkeli041501
    Sivut1-5
    Sivumäärä5
    JulkaisuJournal of Vacuum Science & Technology A
    Vuosikerta30
    Numero4
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2012
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli

    Tutkimusalat

    • atomic layer deposition
    • bioelectric phenomena
    • biomedical electrodes
    • biomedical materials
    • cellular biophysics
    • electric impedance
    • iridium compounds
    • microelectrodes

    Julkaisufoorumi-taso

    • Jufo-taso 1

    Siteeraa tätä