Diffusion barrier cladding in Si/SiGe resonant interband tunneling diodes and their patterned growth on PMOS source/drain regions
- Niu Jin*
- , Sung Yong Chung
- , Anthony T. Rice
- , Paul R. Berger
- , Phillip E. Thompson
- , Cristian Rivas
- , Roger Lake
- , Stephen Sudirgo
- , Jeremy J. Kempisty
- , Branislav Curanovic
- , Sean L. Rommel
- , Karl D. Hirschman
- , Santosh K. Kurinec
- , Peter H. Chi
- , David S. Simons
*Tämän työn vastaava kirjoittaja
Tutkimustuotos: Artikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu
46
Sitaatiot
(Scopus)