Abstrakti
We show that nanoimprint lithography combined with electron-beam evaporation provides a cost-efficient, rapid, and reproducible method to fabricate conical nanostructures with very sharp tips on flat surfaces in high volumes. We demonstrate the method by preparing a wafer-scale array of gold nanocones with an average tip radius of 5 nm. Strong local fields at the tips enhance the second-harmonic generation by over 2 orders of magnitude compared with a nonsharp reference.
Julkaisun otsikon käännös | Nanoimprint fabrication of gold nanocones with ~10nm tips for enhanced optical interactions |
---|---|
Alkuperäiskieli | Englanti |
Sivut | 1979-1981 |
Julkaisu | Optics Letters |
Vuosikerta | 34 |
Numero | 13 |
DOI - pysyväislinkit | |
Tila | Julkaistu - 2009 |
OKM-julkaisutyyppi | A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä |
Julkaisufoorumi-taso
- Jufo-taso 2