Nanoperforated silicon membranes fabricated by UV-nanoimprint lithography, deep reactive ion etching and atomic layer deposition

Julkaisun otsikon käännös: Nanoperforated silicon membranes fabricated by UV-nanoimprint lithography, deep reactive ion etching and atomic layer deposition

Lauri Sainiemi, Jukka Viheriälä, Tiina Sikanen, Janne Laukkanen, Tapio Niemi

    Tutkimustuotos: ArtikkeliScientificvertaisarvioitu

    19 Sitaatiot (Scopus)
    Julkaisun otsikon käännösNanoperforated silicon membranes fabricated by UV-nanoimprint lithography, deep reactive ion etching and atomic layer deposition
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut1-8
    Sivumäärä8
    JulkaisuJournal of Micromechanics and Microengineering
    Vuosikerta20
    Numero7, 077001
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2010
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

    Julkaisufoorumi-taso

    • Jufo-taso 2

    Siteeraa tätä