Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition

Julkaisun otsikon käännös: Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition

J. Viheriälä, T. Rytkönen, T. Niemi, M. Pessa

Tutkimustuotos: Artikkeli › Scientific › vertaisarvioitu

9 Sitaatiot (Scopus)

Julkaisun otsikon käännös	Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition
Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	7 p
Julkaisu	Nanotechnology
Vuosikerta	19
Numero	015302
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.1088/0957-4484/19/01/015302
Tila	Julkaistu - 2008
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisufoorumi-taso

@article{1255cb9fbd6547a492ec549a87f350e6,

title = "Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition",

author = "J. Viheri{\"a}l{\"a} and T. Rytk{\"o}nen and T. Niemi and M. Pessa",

note = "Contribution: organisation=orc,FACT1=1",

year = "2008",

doi = "10.1088/0957-4484/19/01/015302",

language = "English",

volume = "19",

pages = "7 p",

journal = "Nanotechnology",

issn = "0957-4484",

publisher = "IOP Publishing",

number = "015302",

}

TY - JOUR

T1 - Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition

AU - Viheriälä, J.

AU - Rytkönen, T.

AU - Niemi, T.

AU - Pessa, M.

N1 - Contribution: organisation=orc,FACT1=1

PY - 2008

Y1 - 2008

U2 - 10.1088/0957-4484/19/01/015302

DO - 10.1088/0957-4484/19/01/015302

M3 - Article

SN - 0957-4484

VL - 19

SP - 7 p

JO - Nanotechnology

JF - Nanotechnology

IS - 015302

ER -