Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition

Julkaisun otsikon käännös: Narrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition

J. Viheriälä, T. Rytkönen, T. Niemi, M. Pessa

    Tutkimustuotos: ArtikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    11 Sitaatiot (Scopus)
    Julkaisun otsikon käännösNarrow linewidth templates for nanoimprint lithography utilizing conformal deposition
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut7 p
    JulkaisuNanotechnology
    Vuosikerta19
    Numero015302
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2008
    OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

    Julkaisufoorumi-taso

    • Ei tasoa

    Siteeraa tätä