| Julkaisun otsikon käännös | Self-sustained secondary discharge in inductively coupled plasma reactor |
|---|---|
| Alkuperäiskieli | Englanti |
| Sivut | 2508-2510 |
| Julkaisu | Applied Physics Letters |
| Vuosikerta | 76 |
| Numero | 18 |
| Tila | Julkaistu - 2000 |
| OKM-julkaisutyyppi | A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä |
Julkaisufoorumi-taso
- Jufo-taso 2
Siteeraa tätä
- APA
- Author
- BIBTEX
- Harvard
- Standard
- RIS
- Vancouver