Site-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy

Julkaisun otsikon käännös: Site-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy

Andreas Schramm, Juha Tommila, C. Sterlow, T. Kipp, A. Mews, Teemu V. Hakkarainen, Antti Tukiainen, Mihail Dumitrescu, Mircea Guina

    Tutkimustuotos: KonferenssiartikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    Julkaisun otsikon käännösSite-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Otsikko"The 19th International Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the 15th Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS 15 July 25 - 29, 2011,Tallahassee, Florida, USA
    JulkaisupaikkaTallahassee, FL
    KustantajaEP2DS
    Sivut96-96
    TilaJulkaistu - 2011
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

    Julkaisusarja

    NimiInternational Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS
    KustantajaEP2DS

    Julkaisufoorumi-taso

    • Ei tasoa

    Siteeraa tätä