Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Site-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy

Julkaisun otsikon käännös: Site-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy

    Tutkimustuotos: KonferenssiartikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    Julkaisun otsikon käännösSite-controlled InAs quantum dots by nanoimprint lithography and molecular beam epitaxy
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Otsikko"The 19th International Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the 15th Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS 15 July 25 - 29, 2011,Tallahassee, Florida, USA
    JulkaisupaikkaTallahassee, FL
    KustantajaEP2DS
    Sivut96-96
    TilaJulkaistu - 2011
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

    Julkaisusarja

    NimiInternational Conference on Electronic Properties of Two-dimensional Systems EP2DS19 and the Conference on Modulated Semiconductor Structures MSS
    KustantajaEP2DS

    Julkaisufoorumi-taso

    • Ei tasoa

    Siteeraa tätä