Site-controlled molecular beam epitaxy of InAs quantum dots on nanoimprint lithography patterned GaAs

Teemu Hakkarainen, Andreas Schramm, Juha Tapani Tommila, Antti Tukiainen, Ahorinta, Risto, Mihail Dumitrescu, Romain Carron, Pascal Gallo, Eli Kapon, Mircea Guina

    Tutkimustuotos: KonferenssiartikkeliTieteellinen

    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoLDSD 2011, Telchac, Mexico
    TilaJulkaistu - 2011
    OKM-julkaisutyyppiB3 Vertaisarvioimaton artikkeli konferenssijulkaisussa

    Siteeraa tätä