Alkuperäiskieli | Englanti |
---|---|
Otsikko | LDSD 2011, Telchac, Mexico |
Tila | Julkaistu - 2011 |
OKM-julkaisutyyppi | B3 Vertaisarvioimaton artikkeli konferenssijulkaisussa |
Site-controlled molecular beam epitaxy of InAs quantum dots on nanoimprint lithography patterned GaAs
Teemu Hakkarainen, Andreas Schramm, Juha Tapani Tommila, Antti Tukiainen, Ahorinta, Risto, Mihail Dumitrescu, Romain Carron, Pascal Gallo, Eli Kapon, Mircea Guina
Tutkimustuotos: Konferenssiartikkeli › Tieteellinen