Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components

J. Viheriälä; J. Tommila; A. Laakso; S. Ranta; I. Vartiainen; H. Tuovinen; J. Telkkälä; T. Vallius; T. Niemi; M. Dumitrescu; M. Pessa

Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components

Julkaisun otsikon käännös: Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components

J. Viheriälä, J. Tommila, A. Laakso, S. Ranta, I. Vartiainen, H. Tuovinen, J. Telkkälä, T. Vallius, T. Niemi, M. Dumitrescu, M. Pessa

Tutkimustuotos: Konferenssiartikkeli › Tieteellinen › vertaisarvioitu

Julkaisun otsikon käännös	Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components
Alkuperäiskieli	Englanti
Otsikko	CLEO Europe - EQEC 2009, 14 - 19 June 2009, Munich, Germany
Sivut	1 p
Tila	Julkaistu - 2009
OKM-julkaisutyyppi	A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

Julkaisufoorumi-taso

Ei tasoa

Siteeraa tätä

@inproceedings{1601b259c5df4710bfe2d708f8516490,

title = "Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components",

author = "J. Viheri{\"a}l{\"a} and J. Tommila and A. Laakso and S. Ranta and I. Vartiainen and H. Tuovinen and J. Telkk{\"a}l{\"a} and T. Vallius and T. Niemi and M. Dumitrescu and M. Pessa",

note = "Contribution: organisation=orc,FACT1=1",

year = "2009",

language = "English",

isbn = "978-1-4244-4080-1",

pages = "1 p",

booktitle = "CLEO Europe - EQEC 2009, 14 - 19 June 2009, Munich, Germany",

}

TY - GEN

T1 - Soft UV-nanoimprint lithography for the fabrication of frequency selective components

AU - Viheriälä, J.

AU - Tommila, J.

AU - Laakso, A.

AU - Ranta, S.

AU - Vartiainen, I.

AU - Tuovinen, H.

AU - Telkkälä, J.

AU - Vallius, T.

AU - Niemi, T.

AU - Dumitrescu, M.

AU - Pessa, M.

N1 - Contribution: organisation=orc,FACT1=1

PY - 2009

Y1 - 2009

M3 - Conference contribution

SN - 978-1-4244-4080-1

SP - 1 p

BT - CLEO Europe - EQEC 2009, 14 - 19 June 2009, Munich, Germany

ER -