Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

The applicability of electrodeposited photoresist in producing ultra-fine lines using sputtered seeding layers

Julkaisun otsikon käännös: The applicability of electrodeposited photoresist in producing ultra-fine lines using sputtered seeding layers
  • P. Jalonen
  • , A. Tuominen

    Tutkimustuotos: KonferenssiartikkeliTieteellinenvertaisarvioitu

    3 Sitaatiot (Scopus)
    Julkaisun otsikon käännösThe applicability of electrodeposited photoresist in producing ultra-fine lines using sputtered seeding layers
    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoEMAP 2000, Proceedings of International Symposium on Electronic Materials and Packaging, November 30 - December 2, 2000, Clear Water Bay, Kowloon
    ToimittajatJ.K. Kim
    Sivut152-155
    TilaJulkaistu - 2000
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

    Julkaisufoorumi-taso

    • Ei tasoa

    Siteeraa tätä