Tunable Ti3+-Mediated Charge Carrier Dynamics of Atomic Layer Deposition Grown Amorphous TiO2

Jesse Saari, Harri Ali-Löytty, Minttu M. Kauppinen, Markku Hannula, Ramsha Khan, Kimmo Lahtonen, Lauri Palmolahti, Antti Tukiainen, Henrik Grönbeck, Nikolai Tkachenko, Mika Valden

Tutkimustuotos: AbstraktiTieteellinen

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 27 kesäk. 2022
OKM-julkaisutyyppiEi OKM-tyyppiä
TapahtumaThe AVS 22nd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2022) featuring the 9th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2022) - Ghent, Belgia
Kesto: 26 kesäk. 202229 jouluk. 2022
https://ald2022.avs.org/

Conference

ConferenceThe AVS 22nd International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2022) featuring the 9th International Atomic Layer Etching Workshop (ALE 2022)
LyhennettäALD/ALE 2022
Maa/AlueBelgia
KaupunkiGhent
Ajanjakso26/06/2229/12/22
www-osoite

Siteeraa tätä